能源依赖的自屏蔽 FISPACT-II采用了由CALENDF-2010产生提供材料和稀释的具体反应速率概率表。提供了用于宏观部分横截面,包括弹性散射,吸收,裂变,非弹性散射和中子产生(不包括核裂变)概率表。无限稀释剖面是基于原始谱和横截面,其可在高斯扩展求积计算: $$\sigma(x,d=\infty) = \frac{1}{E_{max}-E_{min}}\int_{E_{min}}^{E_{max}} \sigma(E)\, dE = \sum_{n=1}^N P(x,n) \sigma(x,n). $$ 截面$ \sigma $六西格玛和概率表$ P $取决于母核素$ p $,能源集团$ g $,宏观部分索引$ x $和正交指数$ n $。当一个核素是均相混合物的构成成分,在共振区域中的有效横截面被减小,并且可以使用稀释进行参数: $$\sigma(x,d) =\frac{\sum_{n=1}^N P(x,n) \sigma(x,n)/(\sigma_{t}(n)+d)} {\sum_{n=1}^N P(x,n) /(\sigma_{t}(n)+d)} . $$ 稀释基于所述材料组合物以及使用该库截面值迭代算法计算。这些稀释液被用来重新计算每个宏局部的横截面。两种不同的方法其可通过PROBTABLE关键字,是按比例的反应速率基不要总截面或宏观的partials,这还启动不同稀释算法。欲了解更多详情,请参阅用户手册的附录A.4.3。 自屏蔽的因素通过使用任一SSFFUEL(使用同位素定义只是作为燃料关键字)或SSFMASS(其以质量%采用自然元素)的应用。特定的稀释值可以手工使用SSFDILUTION关键字被覆盖。关于如何使用这些功能的更多详细信息可在手册的输入部分。
几何自屏蔽 FISPACT-II是一个点溶液代码不直接考虑的模拟场景的几何形状,但对于几何效果,例如点源的剂量和空间自屏蔽的治疗存在若干健壮系统学。关键字SSFGEOMETRY允许用户使用它已被证明为箔,电线,球体和圆柱体,得到用于空间自屏蔽效果好的协议“通用曲线模型”。这些考虑的共振纯目标,使用通用的无量纲参数, $$ z = \Sigma_{tot}(E_{res}) L_{eff} \sqrt{\frac{\Gamma_\gamma}{\Gamma}}, $$

共振自屏蔽因素对$ z $显示了电线,箔和球几何值的通用曲线。来自E. Martinho et al.服用。